专利摘要显示,公开了一种用于处理基板的设备,所述设备包括:外杯彩娱乐登陆网址,具有顶部开放的处理空间;支撑单元,用于在所述处理空间中支撑基板;引导杯,设置在所述处理空间中并布置成围绕所述支撑单元;液体供应单元,彩娱乐网址CYL588.VIP用于向由所述支撑单元支撑的所述基板的顶表面供应处理液体;以及捕集环,设置在所述引导杯和所述外杯之间的间隙中,以捕获流过所述间隙的所述处理液体,其中所述捕集环形成有排气孔,流过所述间隙的气体从所述排气孔通过,并且所述捕集环在其顶表面上具有用于捕获所述处理液体的捕获空间。